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電子行業半導體超純水設備

 

  東莞海源專業提供半導體產品清洗超純水設備,半導體芯片清洗超純水係統,我公司設計的超純水設備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理後的超純水水質確保處理後出水電阻率達到18 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC+觸摸屏控製,全套係統自動化程度高,係統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。
半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。
鍺和矽是最常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ 族化合物(砷化镓、磷化镓等)、Ⅱ-Ⅵ族化合物( 硫化鎘、硫化鋅等)、氧化物(錳、鉻、鐵、銅的氧化物),以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體(镓鋁砷、镓砷磷等)。除上述晶態半導體外,還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
半導體清洗超純水設備水質標準:
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
半導體清洗超純水設備製備工藝:
 1、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
 3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
 4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
 5、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
半導體行業用超純水設備特點: 
為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的汙染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理係統、RO反滲透主機係統、離子交換混床(EDI電除鹽係統)係統等。 係統中水箱均設有液位控製係統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控製儀表、電氣采用PLC可編程控製器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。
應用場合:
☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
☆黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產、屏麵需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於藥液配製
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